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Cumulative stress by ion implantation of Xe+. Si: A Molecular Dynamics approach

A. Moreno Barrado, M. Castro

19th International Conference on Ion Implantation Technology - IIIT, Valladolid (España). 25-29 junio 2012

Fecha de publicación: 25-jun-2012

Cita:
A. Moreno Barrado, M. Castro, "Cumulative stress by ion implantation of Xe+. Si: A Molecular Dynamics approach", presentado en 19th International Conference on Ion Implantation Technology - IIIT, Valladolid, España, 25-29 junio 2012

Líneas de investigación:

*Sistemas Mecánicos: Mecánica estructural, elementos de máquinas, prototipado rápido, metrología dimensional

Grupos de investigación:

Instituto de Investigación Tecnológica (IIT)

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